2003年1月2号在信息产业部会议室里的这场大戏，直到多年后仍然时不时被与会的一些科研大佬提起。
这是顾松第一次在燧石研究院以外显露本领。
韩经纬是真的服了，再不怀疑倪光北的说法。
顾松答完第三个问题之后，就停止了这个“游戏”。他很干脆地说：“足够了吧？大家觉得我是狂妄也行，我需要对结果负责，我选择相信我自己。”
一个个人，老的少的男的女的，都神情复杂。
不是觉得你狂妄，是真有点狂妄啊。
可是……不服气也不行啊。看那3个提了问题的人一脸兴奋的样子，就知道这小子简直不是人。
顾松揉着太阳穴：“这一搞，又浪费了一个小时时间。对于芯火科技的设备引进，就真的没有思路和办法了吗？”
刚才密集地进入意识空间，冲击还是挺大的。
关键是大佬们的提问不好回答，又不是准备很充分的领域。
见顾松有提起这个问题，章儒京问道：“能在12寸晶圆上工作的初代光刻机，和现在最新的型号在制程工艺上都有充分可挖掘的空间。顾总如果有办法让这个型号的光刻机发挥出最高的效能出来，应该也能满足工艺的需要。”
顾松心中一动。
好像……可以魔改一下嘞？
已经过去的2002年，湾积电那边的林木坚才刚提出浸润式光刻的概念，还没有得到普遍认同。英特尔还在吭哧吭哧地往157纳米波长的光刻机里砸钱，但用193纳米波长的光刻机加上浸润式光刻技术，可以实现134纳米的波长，比157纳米的极限还高。
这样一来还搞毛的157纳米波长光刻机？
英特尔被迫掉了个头，而湾积电也成功七级跳，一举成为最大的巨头之一。
现在这个时间点……大家都还在研究嘞，第一台浸润式光刻机还没研发成功来着。
现在研发牛逼的光刻机来不及，魔改一下……可以试试？
虽然以现在国内的制造工艺水平，可能根本搞不定。但是外挂都开到这种程度了，不需要再过于小心翼翼了吧？
在章儒京眼中，顾松是扶着额头在思考。
但其实他已经又咬咬牙，钻到意识空间里去了。
在里面，一呆又是将近半个小时。
“193纳米波长的干式光刻机，实现浸润式光刻的改造方案？制造工艺水平要求最低的改造方案？”
人工智能谢茵然有宕机的迹象。
立体投影里出现一堆图形和数据。